有没有半导体大佬讲一下哪个工艺最适合长期发展?

4个月前 (01-24) 0 点赞 0 收藏 0 评论 8 已阅读

经过之前兄弟单位的大佬提醒,Diff也是有毒的,只是毒性小容易搞成慢性累积型,没有我干过的其他模组狠,我不应该说Diff和TF完全没毒,我个人这个结论武断了点。感谢大佬的指正!我之前虽然干过Diff,但从事时间并未长久,很快就转了模组,对Diff危险的了解没有隔壁兄弟单位的Diff大佬了解深入。如果有想从事Diff PE的同学们,请看一下评论区瘦马大佬的回复,比较有参考价值。他说的PE洗石英件和SiC桨舟的事,容易接触到氢氟酸,新开的FAB问题也不是很大,这个我还是持保留态度。但有一说一,氢氟酸的确实恐怖了点,是我已知的FAB最恐怖的化学品,没有之一。哪怕是litho家的强碱性的显影液(反正也被稀释过了),litho家还有一个比较毒的是HDMS,最多也就让你神经衰弱或者不孕不育(这个听老人说的,不知真假)但在HF面前都是弟中弟,毕竟你哪天多穿点显影液那玩意能用衣服挡,HF是可以被皮肤吸收,无孔不入,就地化骨升天。我在FAB里平时遇到WET家机台都是躲着走,宁可多走几步,万一的万一的万一,虽然概率很小,但这个万一的万一的万一真的管子爆了,那我就得一万的一万的一万了……

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你说的是长期发展,这个长期发展的解读也有很多种,我个人能力有限,我能解读多少是多少。先劝一句,有的选,干器件也好干PIE也好干YE都行,不要干PE,真的透支青春和健康,如果你实在没得选(这种情况居多)或者比较喜欢自虐,可以往下看。

如果以后想转vendor,那每家其实差不多,但我相对认为光刻好一点,或者也别干模组去干YE,,因为方便转KLA,KLA是我已知vendor对员工最好的,甚至超越ASML。至于说光刻家的track和Diff的炉管,鬼子家的TEL统治了,鬼子家整体对员工也还可以,拿人当人看。

从职业的光明前景上才说,就两家Litho和Etch,这两家是绝对的模组核心,不管是从工艺的重要性还是从转其他岗位的前景来说,比如说转PIE转PDE甚至转design house(当然这个概率太小)litho和Etch可以对其他家进行碾压。决定一家FAB工艺能力的,就这两家。但是缺点是太累了,真TMD累,干这个你要有两层皮的准备。蜕皮的过程中,会不会对你的身体造成不可逆的伤害,虽然是小概率事情,但小概率事情一旦发生,毁人生或者毁某一段人生就是大概率。

那从相对litho和Etch的艰苦而言,我推荐IMP/Thin film/Diff,当然了很多家是把IMP划进Diff。这三家相对于最艰苦的两家,工作loading好很多很多,绝对不会对你身体造成伤害,可以长期干,哪怕夜班,尤其是IMP,我一直认为IMP PE从工作压力上讲,最轻松。我见过的夜班睡觉最多的就是IMP。

但是IMP有个大问题,辐射太严重了,离子注入机周围几乎都是辐射的检测装置,一旦高了立刻报警,而IMP EE进入机台内修机台,你可以看一下,穿得和外星人一样,要这样保护,相比于其他家而言,这个很悲催。

而Thin film和Diff要好很多,也能避免辐射,但是负责的工艺很局限,比如单纯的FEOL或者BEOL,跳槽转行相对而言受限。除非是18-21年的大行情,否则很难。

有人说Wet,wet在某些FAB也划入Diff,这家竟然说轻松?我就说一点,wet家是唯一一家不可以直接transfer receipe的模组,和环境强相关。别说从上海copy到北京,就无锡北面这里copy到南面,tune吧,怼人力去tune吧,wet PE不是一般的爽,仅次于litho和Etch这俩FAB双壁。

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